本項(xiàng)目采用冷噴涂在鋁合金腔體表面噴涂防護(hù)涂層,或?qū)﹁T造鋁合金缺陷進(jìn)行修復(fù),滿足其使用要求。該技術(shù)提供一種等離子刻蝕腔體表面防護(hù)涂層的制備方法,該涂層能減少或阻止腐蝕性氣體對腔體的腐蝕和金屬離子對半導(dǎo)體晶片的污染,提高等離子體刻蝕晶片生產(chǎn)中反應(yīng)室腔體材料的使用壽命。應(yīng)用于大規(guī)模集成電路等離子體刻蝕腔體表面防護(hù)。
技術(shù)特點(diǎn)(包含主要技術(shù)指標(biāo))
本項(xiàng)目利用冷噴涂低溫高速的特點(diǎn),一方面在鋁合金表面噴涂防護(hù)涂層,解決鋁合金在強(qiáng)腐蝕介質(zhì)中的腐蝕問題,同時(shí)保持鋁合金零部件的尺寸精度;另一方面也可以對具有鑄造缺陷或磨損的鋁合金部件進(jìn)行修復(fù),滿足其使用要求。