技術(shù)特點(diǎn)(包含主要技術(shù)指標(biāo)):
本技術(shù)主要利用微波化學(xué)氣相沉積法在不同的襯底上生長(zhǎng)各種不同類型的金剛石薄膜,可應(yīng)用于金剛石高頻高能微電子機(jī)械系統(tǒng)、功能防護(hù)涂層和透明電極、金剛石基生物傳感器,IR、紫外以及X光的窗口,場(chǎng)發(fā)射器件,遠(yuǎn)紫外激光器的制備等等。在硬質(zhì)合金上生長(zhǎng)的金剛石膜與基體之間有良好的結(jié)合力,可應(yīng)用于輕金屬和碳材料的機(jī)械加工。此外,本技術(shù)工藝簡(jiǎn)單,成本低廉,適合于工業(yè)推廣和應(yīng)用。技術(shù)指標(biāo)包括:生長(zhǎng)面積:≤3英寸;沉積速率:<10mm/h;厚度:3~50微米; 硬度:50-100GPa。