無掩模納米光刻機(jī)
															
        
								
        無掩模納米光刻機(jī)
        
								
        
									
        
										
        交易信息：
        
										
        
																						
        完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
        
																					
        
									
        
									
        
										
        技術(shù)領(lǐng)域：
        
										
        
											
        
											
        應(yīng)用領(lǐng)域：
        
											
        最后更新時(shí)間：2022-07-28 15:36
        
										
        
									
        
									
        
										
        所在地：
        
										
        
											
        吉林省 長春市 南關(guān)區(qū)
         
										
        
									
        
									
        
										
        所有者：
        
										
        
											
        飆飆
         
										
        
									
        
									
        
										
        聯(lián)系方式：
        
										
        
											
        13756056562
         
										
        
									
        
								
        
							
        
						 
        
						 
						 
        
							 
        
								 
								 
        
									 
        
										 這套系統(tǒng)，在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級任意形狀的納米構(gòu)造，可獲得導(dǎo)體，半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢，能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。									 
        
									 
        
										 

        這套系統(tǒng)，在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級任意形狀的納米構(gòu)造，可獲得導(dǎo)體，半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢，能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。
        


        
									 
        
									 
        
										 阿薩德1111245									 
        
								 
        
							 
        
							 
						 
        
					 
        
				
        
			
        
		
        
		
		
				

		
		
		
		

	
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