薄膜制備系統(tǒng)精準到原子級別

        薄膜制備系統(tǒng)精準到原子級別

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        應用領域:
        最后更新時間:2022-07-29 13:50
        所在地:
        吉林省 長春市 南關區(qū)
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        飆飆
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        13756056562
        原子層沉積設備技術為國家科技重大專項02專項項目“32nm以下設備關鍵技術研究及創(chuàng)新設備技術探索”成果之一,研制產(chǎn)品針對32nm以下技術代原子層薄膜沉積(ALD)系統(tǒng)及相應的高K柵介質(zhì)工藝驗證及新材料設備工藝進行探索。該機型突破“形核長大”薄膜材料生長原理,在國際上首創(chuàng)適變電場調(diào)制的原子層吸附生長方法,達到原子級別智能化,使得薄膜材料制備更精準、更致密、更均勻。
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