真空電弧離子鍍是將鍍膜材料作為靶極,借助觸發(fā)裝置使靶表面產(chǎn)生弧光放電,膜材料在電弧作用下,產(chǎn)生無熔池蒸發(fā)并沉積在基片上。設(shè)備可根據(jù)用戶要求配置多個(gè)小多弧源、大面積矩形電弧源或旋轉(zhuǎn)柱狀磁控電弧源,以實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜及梯度功能膜的制備。偏壓電源采用最新直流脈沖疊加式開關(guān)型偏壓電源,可實(shí)現(xiàn)低溫沉積(~200℃),大大擴(kuò)大了鍍膜工藝的應(yīng)用范圍,并且使膜層質(zhì)量以及膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度大大提高。
此技術(shù)可以制備多種硬質(zhì)涂層,如TiN、TiC、ZrN、CrN、TiCN、(Ti、Al)N、Al2O3,DLC膜以及多層復(fù)合膜等。研究的離子鍍仿金裝飾鍍層經(jīng)久耐用,廣泛用于日用飾品、建筑五金等領(lǐng)域,離子鍍TiN系列耐磨涂層及其復(fù)合涂層具有高硬度、良好的結(jié)合強(qiáng)度和耐磨性,廣泛用于高速鋼、硬質(zhì)合金刀具、模具,可顯著提高其使用壽命,提高切削效率和加工工件表面質(zhì)量??芍苽銶CrAlY等抗腐蝕、抗高溫氧化涂層和其他功能涂層,應(yīng)用于燃汽輪機(jī)葉片。